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2nm

  • Intel PowerVia背面供电测试成功!“2nm”工艺见、频率提升6%

    2021年,Intel宣布了全新的制造工艺路线图,包括Intel7、4、3、20A、18A,其中20A、18A将引领进入埃米时代,并同时采用PowerVia背面供电、RibbonFET全环绕栅极两大全新技术。快科技6月6日消息,Intel官方宣布,率先在代号为“BlueSkyCreek”产品级测试芯片上实现了背面供电技术,将于2024年上半年在Intel20A工艺节点上正式落地。
    我要新鲜事2023-07-13 18:43:33
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